【技術(shù)文章】薄膜的電學(xué)性質(zhì) 2014-08-04

薄膜的電學(xué)性質(zhì)，如電阻率、電阻溫度系數(shù)、介電常數(shù)等及其與膜厚、外加電場、環(huán)境溫度等的關(guān)系直接決定了薄膜在各種實際應(yīng)用中的性能。金屬薄膜、介質(zhì)薄膜、半導(dǎo)薄膜和超導(dǎo)體薄膜的電學(xué)性質(zhì)都不一樣。

【技術(shù)文章】什么是維氏硬度計 2014-07-31

維氏硬度計是以金剛石壓入試樣后，用所得壓痕對角線的長度值(單位一般為微米)進行計算而求得硬度值的。金剛石壓頭的形狀是一四方角錐體，錐面夾角為1360，它的壓痕是一個壓下去的四方角錐體。對于薄膜來說，過深的壓痕其形變的影響范圍有可能達到基片，這時測得硬度就不準...

【技術(shù)文章】薄膜的硬度測試 2014-07-25

物質(zhì)的硬度定義為一種物質(zhì)相對于另一物質(zhì)的抗摩擦性或抗刻劃性的能力。例如氮化欽薄膜蒸鍍在齒輪或刀具的表面，可以延長它們的壽命，硬度極高、耐腐蝕性極好、透光性能優(yōu)良的類金剛石膜可用于光學(xué)器件、太陽能電池的表面保護。 硬度試驗方法多種多樣，現(xiàn)在最常用的是...

【技術(shù)文章】內(nèi)應(yīng)力的測量方法-X射線衍射法 2014-07-23

用X射線衍射法可以測量出薄膜結(jié)構(gòu)的面間距，將測量值與材料的標準面間距相比可以求出薄膜的應(yīng)變，從而求出薄膜的內(nèi)應(yīng)力。為了使衍射峰不過于彌散，薄膜的厚度至少要數(shù)十納米以上。圖退火前后金剛石薄膜的X射線衍射圖。由圖可見，薄膜各晶面在退火前的峰位要大于退火后薄膜對應(yīng)...

【技術(shù)文章】內(nèi)應(yīng)力的測量方法-彎盤法 2014-07-21

彎盤法的基本原理與懸臂梁法相同，也是利用基片的形變測定內(nèi)應(yīng)力的。所不同的是基片為圓形，在沉積薄膜前后測量基片的曲率半徑Rl和R2，然后根據(jù)下式計算出薄膜中的內(nèi)應(yīng)力。 為了保證測試系經(jīng)有較高的靈敏度，需要選用合適的基片和檢測方法。現(xiàn)在常用的...

【技術(shù)文章】內(nèi)應(yīng)力的測量方法-懸臂梁法 2014-07-18

內(nèi)應(yīng)力測量方法大體上可分為兩類，即機械法和衍射法。機械法測量基片受應(yīng)力作用后彎曲的程度，衍射法則測量薄膜晶格常數(shù)的畸變。在這兩大類中又分別有許多不同的方法，下面簡單介紹幾種常用的方法。 一、懸臂梁法 將薄膜沉積在基片上，基片受到...

【技術(shù)文章】附著力測試的直接法 2014-07-09

如果薄膜的附著力很強，即使粘結(jié)面被剝離而薄膜仍然附著，就要將力直接加到薄膜上使其剝離基片，這類測量附著力的方法稱為直接法。直接法中有劃痕法、摩擦法、離心法等。此處著重介紹常用的劃痕法。 劃痕法直接測量附著力的原理如圖7一4所示。將一根硬針的*垂直...

【技術(shù)文章】薄膜的附著現(xiàn)象 2014-07-03

薄膜在基片表面上的附著，是范德華力、擴散附著、機械鎖合、靜電引力等多種因素綜合作用的結(jié)果。如薄膜材料與基片形成化合物，化學(xué)鍵力成為主要的附著作用力。薄膜的附著力可分為簡單附著、擴散附著、通過中間層附著和宏觀效應(yīng)附著等四種類型。

【技術(shù)文章】薄膜的附著力 2014-07-02

薄膜在基片上的附著性能決定了薄膜應(yīng)用的可能性和可靠性。附著的定義為:薄膜與基片保持接觸，兩者的原子互相受到對方的吸附作用的狀態(tài)。把單位面積的薄膜從基片上準靜態(tài)地剝離下來所需的力為附著力，所需要的能量為附著能。

【技術(shù)文章】薄膜的力學(xué)性質(zhì)概述 2014-06-30

薄膜的力學(xué)性質(zhì)主要包括附著性質(zhì)、應(yīng)力性質(zhì)、彈性性質(zhì)和機械強度等。薄膜和基片之間的附著性能好壞將直接影響到薄膜的使用性能。在某些情況下還需考慮薄膜的其他力學(xué)性能，如主要用于增強基體的硬度與耐摩擦能力的超硬薄膜，則需要考慮耐壓強度。